龙8国际电子平台

English 中文

磁控溅射生产线

产品特点

手艺参数

装备型号ZCJ-300（600、1200）
极限真空8×10-5Pa
腔室功效分类进、出样室（1000Pa）
过渡室（0.5Pa）
缓冲室（压力及气氛匹配溅射室）
溅射室（0.5Pa）
溅射靶类型矩形平面靶、圆柱旋转靶

手艺参数

样品幅宽300、600、1200mm
常用靶材ITO、NiO2、Cu
靶基距80~120mm
镀膜节奏≥60s
一连运行时间≥200h
片内膜厚匀称性≤±3%
片间膜厚匀称性≤±3%
返回
网站地图